プレスリリース
半導体露光装置の世界市場は2027年まで年平均成長率9.54％で成長する見込み
(PR TIMES) 2022年01月12日(水)21時15分配信
2022年01月10日にREPORTOCEANが発行した新しいレポートによると、-半導体露光装置の世界市場は、予測期間2021-2027年に9.54%以上の健全な成長率で成長すると予測されています。
世界の半導体露光装置市場は、2020年に158億8000万米ドルとなり、2021-2027年の予測期間にCAGR 9.54％で成長すると予測されています。
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市場の概要:
メモリチップやコンピュータのマイクロプロセッサなどの電気部品や電化製品は、リソグラフィ半導体装置の展開によって設計されたナノメートルレベルの電気回路を含んでいます。半導体の回路集積を伴う新技術の開発において、半導体露光装置は重要な役割を担っています。市場成長の原動力は、専門装置メーカーによる技術革新の進展と、電気自動車による小型化・高機能化の要求の高まりにあります。半導体露光装置メーカーは、微細化の進展に対応するため、高度なCD（Critical Dimension）測定技術を開発している。例えば、日立製作所は、測定精度と品質を向上させた「SEM CG7300 CD Measurement」を発表している。この新装置は、5ナノメートル世代の量産や3ナノメートル世代のEUV露光装置の開発を目的としたものです。また、集積回路（IC）の普及に伴い、低コストで高性能なデバイスの市場が拡大しています。半導体産業協会の推計によると、2020年の半導体分野の市場規模は4330億3000万米ドルに達するとされている。しかし、製造工程におけるパターンの複雑さが、2020-2027年の予測期間における市場成長を阻害しています。
地域別分析:
半導体露光装置の売上高では、北米が最大の市場シェアを獲得すると予想される。これは、集積された進歩回路と新技術の需要の高まりが、予測期間中にそれぞれの地域の市場成長につながると考えられるからである。一方、アジア・パシフィック地域は、小型電子機器の需要増に伴い、半導体リソグラフィ装置に対する需要が高まっています。
半導体露光装置の世界市場における主要企業:
Nikon Corporation
Canon Inc.
ASML Holding NV
Veeco Instruments Inc.
SuSS MicroTec SE
Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co. Ltd.
EV Group (EVG)
JEOL, Ltd.
Onto Innovation (Rudolph Technologies, Inc.)
Neutronix Quintel Inc. (NXQ)
本調査の目的は、近年における様々なセグメント＆国の市場規模を定義し、今後8年間の値を予測することです。本レポートは、調査対象となる各地域・各国における産業の質的・量的な側面を取り込むように設計されています。さらに、市場の将来的な成長を規定する駆動因子や課題などの重要な側面に関する詳細な情報も提供しています。さらに、主要企業の競争環境と製品提供の詳細な分析とともに、利害関係者が投資するためにミクロ市場で利用可能な機会も組み込まなければなりません。市場の詳細なセグメントとサブセグメントを以下に説明します。
タイプ別:
深紫外光リソグラフィ（DUV）（ArFi、ArF dry、KrF、i線）
極端紫外線露光装置(EUV)
用途別:
アドバンストパッケージング
MEMSデバイス
LEDデバイス
地域別では、以下のように区分されます:
北米 (米国、カナダ、メキシコ)
ヨーロッパ（イギリス、ドイツ、フランス、イタリア、スペイン、ポーランド、ロシア、オランダ、ベルギー、トルコ、北欧諸国、その他のヨーロッパ諸国）。
アジア太平洋地域（中国、インド、日本、韓国、オーストラリア、ニュージーランド、ASEAN諸国、その他アジア太平洋地域）
中東・アフリカ（UAE、サウジアラビア、南アフリカ、イスラエル、クウェート、カタール、オマーン、MEAのその他地域）
南米（アルゼンチン、ブラジル、その他の南米地域）
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