プレスリリース

三菱ケミカル株式会社　 魚津　吉弘　氏 、東京理科大学　 谷口　淳　氏、芝浦機械株式会社　 小久保　光典　氏にご講演をいただきます。

株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山　正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せるナノインプリント技術での課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の講師からなる「ナノインプリント 」講座を開講いたします。

ナノインプリントによる微細加工技術、装置の設計、 各種部材の開発および光学材料への適用について説明します。
本講座は、2023年05月31日開講を予定いたします。
詳細：https://andtech.co.jp/seminars/1edde9b6-09e2-6b8a-a13e-064fb9a95405
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Live配信・WEBセミナー講習会 概要



テーマ：ナノインプリントによる微細加工技術、装置の設計および光学材料への適用
開催日時：2023年05月31日(水) 13:00-16:50
参 加 費：44,000円（税込） ※ 電子にて資料配布予定
U R L ：https://andtech.co.jp/seminars/1edde9b6-09e2-6b8a-a13e-064fb9a95405
WEB配信形式：Zoom（お申し込み後、URLを送付）


セミナー講習会内容構成



ープログラム・講師ー

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第1部 ナノインプリント技術の基礎と将来
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講師 東京理科大学 先進工学部 教授 谷口 淳 氏


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第2部 ナノインプリント装置の設計と光学材料への適用例
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講師 芝浦機械株式会社 執行役員 R&Dセンター 研究開発部 部長 小久保 光典 氏


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第3部 蛾の眼を模倣した高性能反射防止フィルムの開発
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講師 三菱ケミカル株式会社 R&D フェロー 魚津 吉弘 氏


本セミナーで学べる知識や解決できる技術課題
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ナノインプリント技術の基礎知識
ナノインプリント技術を用いてどのように応用していけばよいかの方針などがわかる。
ナノインプリント手法を様々なデバイス作製，様々な箇所へ適用することに関しての問題点，注意点に加え，判断基準なども紹介いたします。
〇バイオミメティクスの動向
〇ナノインプリント技術
〇自己組織化（ボトムアッププロセス）
〇モスアイフィルムの適用領域


本セミナーの受講形式



WEB会議ツール「Zoom」を使ったライブLive配信セミナーとなります。
詳細は、お申し込み後お伝えいたします。


株式会社AndTechについて


[画像2: https://prtimes.jp/i/80053/431/resize/d80053-431-cbb30920595efe903551-1.jpg ]


化学、素材、エレクトロニクス、自動車、エネルギー、医療機器、食品包装、建材など、
幅広い分野のR&Dを担うクライアントのために情報を提供する研究開発支援サービスを提供しております。

弊社は一流の講師陣をそろえ、「技術講習会・セミナー」に始まり「講師派遣」「出版」「コンサルタント派遣」
「市場動向調査」「ビジネスマッチング」「事業開発コンサル」といった様々なサービスを提供しております。
クライアントの声に耳を傾け、希望する新規事業領域・市場に進出するために効果的な支援を提供しております。
https://andtech.co.jp/


株式会社AndTech 技術講習会一覧


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一流の講師のＷＥＢ講座セミナーを毎月多数開催しております。
https://andtech.co.jp/seminars/search


株式会社AndTech 書籍一覧


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選りすぐりのテーマから、ニーズの高いものを選び、書籍を発行しております。
https://andtech.co.jp/books


株式会社AndTech コンサルティングサービス


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経験実績豊富な専門性の高い技術コンサルタントを派遣します。
https://andtech.co.jp/business-consulting


本件に関するお問い合わせ



株式会社AndTech 広報PR担当 青木
メールアドレス：pr●andtech.co.jp（●を@に変更しご連絡ください）


下記プログラム全項目（詳細が気になる方は是非ご覧ください）



【第1講】 ナノインプリント技術の基礎と将来


講演主旨
ナノインプリント技術は、ナノオーダーの金型転写技術であり、簡単な原理でナノパターンが得られる利点がある。また、現在でも半導体用リソグラフィへの適用が模索されており、連続生産が可能なロールトゥロールでのフィルムへのナノ構造転写なども可能となっている。本講義では、ナノインプリント技術の基礎から様々な分野への応用を紹介し、将来展望もおこなう。将来展望としては、メタサーフェスやAR/MRグラス等への検討が世界的に始まっており、現在注目されている。これらの技術についても状況と展望を概説する。


プログラム

1．ナノインプリントの基礎
1-1 ナノインプリントの歴史
１-2 ナノインプリントの要素技術
1-3 ナノインプリントの各種方式
1-4 ナノインプリントの位置づけ

2. ナノインプリント派生技術
2-1 ナノトランスファープロセス
2-2 金属パターン転写
2-3 ロールナノインプリント

3. 将来展望
3-1 メタサーフェス
3-2 AR/MR グラス

4．まとめ

【質疑応答】


【第2講】 ナノインプリント装置の設計と光学材料への適用例

【講演主旨】

低コスト微細構造形成技術である、ナノインプリント成形技術の概要について紹介するとともに、超精密加工機による金型加工にも触れる。
ナノインプリント装置に関しては直押し方式の微細転写装置に加え、大面積化・高スループット化へのアプローチとして注目されているRoll to Roll方式の装置開発状況について説明し、デバイスへの適用例として、LEDの高輝度化、ウエハレベルレンズ、大面積 (G2 (370×470mm) ) サイズのWGP (ワイヤーグリッド偏光子) について解説する。

【プログラム】
１．芝浦機械株式会社の紹介

２．ナノインプリントプロセス
2.1 ナノインプリントプロセスの概要と特徴
2.2 ナノインプリントプロセス適用デバイス例
2.3 ナノインプリント装置構成と特徴

３．ナノインプリント装置と転写事例の紹介
3.1 直押し方式ナノインプリント装置 ST series
3.2 Roll to Roll方式UVナノインプリント装置 RT series

４．ナノインプリント手法を用いたデバイス適用例の紹介
4.1 LED
4.1.1 プロセス説明
4.1.2 Roll to Roll方式UVナノインプリント装置 RT seriesによるフィルムモールド作製
4.1.3 高輝度LED専用ナノインプリント装置 ST50S-LED
4.2 WLL（Wafer Level Lens ウエハレベルレンズ）
4.2.1 プロセス説明
4.2.2 機械加工およびStep & Repeat方式ナノインプリントによるマイクロレンズアレイモールド製作
4.2.3 WLL専用ナノインプリント装置 ST01S-WL
4.3 ワイヤーグリッド偏光子（大面積転写）
4.3.1 プロセス説明
4.3.2 インクジェットレジスト塗工による大面積（G2(370×470mm)）サイズのWGP作製（残膜（RLT:Residual Layer Thickness）目標50nm以下への挑戦
4.3.3 G2(370×470mm)サイズWGP転写用Roll to Plate(RtP)装置 ST(G2)-RtP

【質疑応答】

【第3講】 蛾の眼を模倣した高性能反射防止フィルムの開発

【講演主旨】
モスアイ型反射防止フィルムは蛾の目を模倣したバイオミメティクス材料であり、表面に微小突起構造を形成したフィルムである。その特徴は可視光全波長域での反射を防止すること並びに角度依存性が少ないことがあげられる。その構造の作製はナノインプリントによって行われ、そのナノインプリントの金型は従来リソグラフィなどのトップダウンの方式で作製されており、小面積でしかも大変高価な金型が用いられていた。本講のポイントは安価に大面積で作製が可能な、アルミニウムを陽極酸化する際に自己組織的に形成されるアルミナナノホールアレイを活用したことである。大面積でしかも曲面にも形成できるという特徴を活かし、大型ロール金型を作製し、ロールツーロールによるモスアイフィルムの連続賦形技術を確立した。

【プログラム】

1．従来の反射防止フィルム
2．モスアイ構造と従来の製造技術
3．ポーラスアルミナを用いたモスアイ金型とナノインプリントによるモスアイ構造の作製技術
4．モスアイ型反射防止フィルムの光学特性
5．モスアイ型反射防止フィルムのその他の特性

【質疑応答】


＊ 本ニュースリリースに記載された商品・サービス名は各社の商標または登録商標です。
＊ 本ニュースリリースに記載された内容は発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがあります。

以 上

プレスリリース提供：PR TIMES