プレスリリース

サーベイレポート合同会社は、極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の予測評価を提供する2024年8月発行の調査レポート「極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別セグメント（光、光源、オプティクス、マスク、その他）、エンドユーザー別セグメント（集積デバイスメーカー（IDM）、ファウンドリ）-世界市場分析、動向、機会、予測、2024-2033年」を発表しました。極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の成長促進要因、市場機会、課題、脅威など、いくつかの主要な市場ダイナミクスを紹介しています。

極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の 概要

極端紫外線（EUV）リソグラフィは、マイクロチップ上に極めて小さく精密なパターンを形成するための先進的な半導体製造技術です。EUVリソグラフィは、波長13.5ナノメートルの紫外線を使用し、従来のフォトリソグラフィ技術よりもはるかに短い波長を実現します。この波長の短さは、より微細な解像度を可能にし、より小さく、より強力で、より効率的な集積回路の製造を可能にします。EUVリソグラフィは、最新世代のマイクロプロセッサやメモリチップの製造に不可欠であり、ムーアの法則の継続的な進歩を支えています。この技術には、複雑な光学系、ミラー、レーザーが含まれるため、半導体業界では高度に専門化された最先端プロセスとなっています。

Surveyreportsの専門家たちは、極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場調査を分析し、2023年に生成された極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場規模が95億米ドルであることを明らかにしました。さらに、極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のシェアは、2033年末までに257億米ドルの収益に触れることを予見しています。極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場は、2024年と2033年の予測期間中に約22％のCAGRで成長することが提案されています。

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Surveyreportsのアナリストによる極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の質的分析によると、極端紫外線（EUV）リソグラフィの市場規模は、先端半導体デバイスの需要増加、コスト効率、集積回路の複雑化により拡大し、日本市場の成長を牽引すると考えられます。極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の主な参入企業は、ASML、Carl Zeiss AG、TOPPAN Inc、NTTアドバンステクノロジ、KLA株式会社、AGC Inc、HOYA株式会社、レーザーテック株式会社、株式会社ザイゴ、イマジンオプティクス、アプライド マテリアル, Inc、SUSS MicroTech SEなどです。

弊社の極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場調査レポートには、北米、欧州、アジア太平洋、中東・アフリカ、中南米の5つの異なる地域とその国に関する詳細な分析も含まれています。また、日本のお客様のニーズに合わせた詳細な分析も行っています。

目次

● 各国のライドシェアリング市場規模、成長分析、主要市場プレイヤーの評価
● 2033年までの世界のライドシェアリング市場（北米、ヨーロッパ、アジア太平洋地域、中南米）の需要と機会分析（日本を含む国別）
● アナリストによるCレベル幹部への提言
● 市場の変動と将来展望の評価
● 市場細分化分析： 機器別, エンドユーザー別, 地域別
● 最近の動向、輸出入データ、市場動向、政府指針の分析
● 戦略的な競争機会
● 投資家向け競争モデル

極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のセグメンテーション

● 装置別

o 光源
o マスク
o 光学系

● エンドユーザー別

o 統合デバイスメーカー
o ファウンドリ

● 地域別

o 北アメリカ、ヨーロッパ、アジア太平洋、ラテンアメリカ、中東＆アフリカ

極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の地域別セグメンテーション：

地域別に見ると、極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場は、北米、欧州、アジア太平洋地域、中南米、中東・アフリカの5つの主要地域に区分されます。このうち、アジア太平洋地域は2033年末までに最大の市場シェアを占めると予測されています。これらの地域はさらに次のように細分化されます：

● 北米- 米国、カナダ
● ヨーロッパ- 英国、ドイツ、フランス、イタリア、スペイン、ロシア、その他のヨーロッパ地域
● アジア太平洋- 日本、中国、インド、インドネシア、マレーシア、オーストラリア、その他のアジア太平洋地域
● 中南米-メキシコ、アルゼンチン、その他の中南米地域
● 中東およびアフリカ

詳細レポートへのアクセスはこちら：https://www.surveyreports.jp/industry-analysis/extreme-ultraviolet-euv-lithography-market/1037359

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